快速退火炉
的有关信息介绍如下:快速退火炉的定义和功能快速退火炉是利用卤素红外灯作为热源,通过极快的升温速率将晶圆或材料加热到300℃-1200℃,主要用于消除材料内部缺陷,改善产品性能。它采用先进的微电脑控制系统,具有高控温精度和温度均匀性,并可配置真空腔体和多路气体。快速退火炉的工作原理快速退火炉通过卤素红外灯或其他加热方式(如电阻丝)迅速加热样品,升温速率可达150℃/秒,降温速率可达200℃/分钟。其控温精度为±0.5℃,温控均匀性≤0.5%设定温度。快速退火炉的应用领域快速退火炉广泛应用于半导体器件研发及生产、光伏应用、材料科学研究等领域。它可以满足离子注入后的快速退火、欧姆接触快速合金、硅化物合金退火、氧化物生长以及光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺。