光爆

光爆

‌光爆技术是一种控制爆破技术，主要用于地面和地下开挖工程中，其效果受到多种因素的影响，包括地质条件、炮孔精度、爆破操作技术等。光爆技术的核心在于通过合理的设计和实施，确保爆破后形成的轮廓面光滑平整。关键因素包括最小抵抗线、‌光面眼间距、‌装药量、装药结构以及起爆技术等。‌光爆技术的实施涉及多个步骤和参数设置，以确保爆破效果的最佳化。例如，合理的不耦合系数应使炮孔压力低于岩壁的动抗压强度而高于动抗拉强度，通常采用1.1～3.0的范围，其中1.5～2.5使用较多。光面眼间距一般取为炮眼直径的10～20倍，节理裂隙发育的岩石中应取小值，整体性好的岩石中可取大值。最小抵抗线是光面层厚度或周边眼到邻近辅助眼间的距离，通常应大于或等于光面眼间距。此外，光爆技术的应用还涉及到经济效益的提升，包括提高劳动工效和降低炸药消耗。通过采用光面爆破技术，可以充分利用巷道空间，提高工时利用率，缩短工时，从而提高工效。同时，通过合理的设计和管理装药、封泥等工序，可以有效降低炸药消耗。‌总之，光爆技术是一种先进的爆破方法，通过精确的设计和实施，可以有效控制爆破效果，减少对围岩的扰动，提高施工安全和经济性。‌