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真空镀膜材料

真空镀膜材料

的有关信息介绍如下:

真空镀膜材料主要包括金属和金属氧化物。金属型镀膜材料包括铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等。合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等。金属化合物包括二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中,铝是最常用和最普遍的镀膜材料,主要是因为其蒸发温度低、易操作、对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强,且价格低廉。‌真空镀膜技术是一种在真空条件下,通过加热金属或非金属材料使其蒸发并凝结于镀件(如金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的方法。这种技术广泛应用于航空航天、电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业领域,赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。‌真空镀膜技术包括多种形式,如蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀等。蒸发镀膜是通过加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结在基材表面形成薄膜。溅射镀膜则是通过高能粒子轰击靶材,使靶材原子从表面逸出并沉积在基片上形成薄膜。离子镀则是蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子形式沉积在固体表面。‌此外,真空镀膜技术还广泛应用于塑料薄膜或纸张表面的镀铝,形成镀铝薄膜,广泛用于代替铝箔复合材料,如铝箔/塑料、铝箔/纸等,显示其广泛的应用价值和实用性。‌

真空镀膜材料